Resist polymer, resist composition, method for manufacture of substrate having pattern formed thereon, polymerizable monomer, and method for production of polymerizable monomer

WO2007049593 Art A1 3. Mai 2007

Anmelder: Mitsubishi Rayon Co. Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007049593
Aktenzeichen: EP06822105
Anmeldetag: 24. Oktober 2006
Veröffentlichung: 3. Mai 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C08F20/30C08F16/26C08F18/04G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Rayon Co. Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Rayon

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, spezialisiert auf Kohlenstofffasern und Kunststoffe, seit 2017 als Mitsubishi Chemical firmierend.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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