Chemical mechanical polishing slurry composition for polishing polycrystalline silicon film and method for preparing the same

WO2007052862 Art A1 10. Mai 2007

Anmelder: CHEIL INDUSTRIES INC., Samsung Electronics Co., Ltd. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007052862
Aktenzeichen: EP05822205
Anmeldetag: 27. Dezember 2005
Veröffentlichung: 10. Mai 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C09K3/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: CHEIL INDUSTRIES INC.
Samsung Electronics Co., Ltd.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Cheil Industries Inc.

Ehemaliges südkoreanisches Chemie- und Materialunternehmen der Samsung-Gruppe, 2015 in Samsung C&T Corporation aufgegangen und heute nicht mehr eigenständig tätig.

772 Patente in unserer Datenbank

🇰🇷 Samsung Electronics

Südkoreanischer Elektronikkonzern und Teil der Samsung-Gruppe. Entwickelt und produziert Halbleiter, Speicherchips, Displays, Smartphones, Unterhaltungselektronik sowie Haushaltsgeräte für den globalen Markt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe

Vertreten von