Systems and methods to shape laser light as a line beam for interaction with a substrate having surface variations

WO2007053320 Art A2 10. Mai 2007

Anmelder: Cymer, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007053320
Aktenzeichen: EP06826253
Anmeldetag: 20. Oktober 2006
Veröffentlichung: 10. Mai 2007
Rechtsraum: WO
IPC: B23K26/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cymer, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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