Thick Crack-Free Silica Film By Colloidal Silica Incorporation

WO2007053407 Art A2 10. Mai 2007

Anmelder: Honeywell International Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007053407
Aktenzeichen: EP06826697
Anmeldetag: 26. Oktober 2006
Veröffentlichung: 10. Mai 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C08L83/04C08K3/36

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Honeywell International Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Honeywell

US-amerikanischer Mischkonzern mit Schwerpunkten in Luft- und Raumfahrttechnik, Automatisierungslösungen, Gebäudetechnik sowie Spezialchemikalien und -materialien für Industrie- und Verteidigungskunden.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik

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