Sno2 sputtering target and process for producing same

WO2007055231 Art A1 18. Mai 2007

Anmelder: MITSUI MINING & SMELTING CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007055231
Aktenzeichen: EP06823157
Anmeldetag: 8. November 2006
Veröffentlichung: 18. Mai 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C04B35/457

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUI MINING & SMELTING CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsui Mining & Smelting

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Nichteisenmetallen sowie der Herstellung von Materialien für die Elektronikindustrie.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

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