Method and system for controlled oxygen incorporation in compound semiconductor films for device performance enhancement
WO2007056030
Art A2
18. Mai 2007
Anmelder: ATMEL CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2007056030
- Aktenzeichen
- EP06827324
- Anmeldetag
- 31. Oktober 2006
- Veröffentlichung
- 18. Mai 2007
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B32B9/04H01L31/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ATMEL CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Atmel
Atmel war ein US-amerikanischer Halbleiterhersteller für Mikrocontroller und wurde 2016 von Microchip Technology übernommen. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Software und Datenverarbeitung sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt um Datenspeicherung und Elektronik. Anmeldungen liegen im Zeitraum 2000 bis 2021.
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