Batch photoresist dry strip and ash system and process

WO2007056369 Art A2 18. Mai 2007

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007056369
Aktenzeichen: EP06837068
Anmeldetag: 6. November 2006
Veröffentlichung: 18. Mai 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/42H01J37/32H01L21/311

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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