Semiconductor device and manufacturing method thereof

WO2007058329 Art A1 24. Mai 2007

Anmelder: Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2007058329
Aktenzeichen
EP06832920
Anmeldetag
13. November 2006
Veröffentlichung
24. Mai 2007
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/336G02F1/1368H01L21/28H01L29/786H01L51/50
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Semiconductor Energy Laboratory

Japanisches Forschungsunternehmen mit Sitz in Atsugi. Semiconductor Energy Laboratory (SEL) forscht an Halbleitertechnologien, Flüssigkristall- und OLED-Displays sowie Dünnschichttransistoren.

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