Substrate processing apparatus, substrate cleaning/drying apparatus, substrate processing method and substrate processing program

WO2007060844 Art A1 31. Mai 2007

Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007060844
Aktenzeichen: EP06823284
Anmeldetag: 10. November 2006
Veröffentlichung: 31. Mai 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304F26B9/06F26B21/14G02F1/13G02F1/1333

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik Optik & Fototechnik

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