Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method
WO2007060869
Art A1
31. Mai 2007
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2007060869
- Aktenzeichen
- EP06823413
- Anmeldetag
- 15. November 2006
- Veröffentlichung
- 31. Mai 2007
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B24B37/00C09K3/14H01L21/304
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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