Mark structure, mark measuring apparatus, pattern forming apparatus, pattern detecting apparatus, detecting method and device manufacturing method

WO2007061025 Art A1 31. Mai 2007

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007061025
Aktenzeichen: EP06833192
Anmeldetag: 24. November 2006
Veröffentlichung: 31. Mai 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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