Method and system for performing plasma enhanced atomic layer deposition

WO2007061633 Art A2 31. Mai 2007

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007061633
Aktenzeichen: EP06837191
Anmeldetag: 9. November 2006
Veröffentlichung: 31. Mai 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G06F19/00C23C16/00H05H1/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik Software & Datenverarbeitung

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