Organometallic precursors and related intermediates for deposition processes, their production and methods of use

WO2007064376 Art A2 7. Juni 2007

Anmelder: Honeywell International Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007064376
Aktenzeichen: EP06789988
Anmeldetag: 25. August 2006
Veröffentlichung: 7. Juni 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C07F15/00C23C16/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Honeywell International Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Honeywell

US-amerikanischer Mischkonzern mit Schwerpunkten in Luft- und Raumfahrttechnik, Automatisierungslösungen, Gebäudetechnik sowie Spezialchemikalien und -materialien für Industrie- und Verteidigungskunden.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Organische Chemie

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