Angled implantation for removal of thin film layers

WO2007064982 Art A1 7. Juni 2007

Anmelder: Intel Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2007064982
Aktenzeichen
EP06844766
Anmeldetag
29. November 2006
Veröffentlichung
7. Juni 2007
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/28
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Intel Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

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