Dünnfilmwiderstand mit Schichtstruktur und Verfahren zur Herstellung eines Dünnfilmwiderstands mit Schichtstruktur

WO2007065460 Art A1 14. Juni 2007

Anmelder: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007065460
Aktenzeichen: EP05846087
Anmeldetag: 9. Dezember 2005
Veröffentlichung: 14. Juni 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01C7/00H01C17/075

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Fraunhofer-Gesellschaft

Deutsche gemeinnützige Forschungsorganisation mit Sitz in München. Betreibt anwendungsorientierte Forschung in Technik und Naturwissenschaften über zahlreiche Institute für Industrie und Gesellschaft.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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