Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie Verfahren zur Herstellung Mikrostrukturierter Bauelemente
WO2007066225
Art A2
14. Juni 2007
Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2007066225
- Aktenzeichen
- EP06847244
- Anmeldetag
- 8. November 2006
- Veröffentlichung
- 14. Juni 2007
- Rechtsraum
- WO
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Vertreten von
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