Polysiloxane and radiation-sensitive resin composition

WO2007066653 Art A1 14. Juni 2007

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007066653
Aktenzeichen: EP06834004
Anmeldetag: 5. Dezember 2006
Veröffentlichung: 14. Juni 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C08G77/12G03F7/039G03F7/075H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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