Polishing composition and method for high silicon nitride to silicon oxide removal rate ratios

WO2007067294 Art A2 14. Juni 2007

Anmelder: CABOT MICROELECTRONICS CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007067294
Aktenzeichen: EP06837152
Anmeldetag: 8. November 2006
Veröffentlichung: 14. Juni 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C09G1/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CABOT MICROELECTRONICS CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cabot Microelectronics

Cabot Microelectronics war ein US-amerikanischer Hersteller von Polierchemikalien für die Halbleiterfertigung und ist heute Teil von Entegris. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Farben, Klebstoffe und Brennstoffe sowie Halbleiterbauelemente, mit Bezug zur Werkzeug- und Fertigungstechnik. Die Anmeldungen bis 2019 betreffen unter anderem CMP-Zusammensetzungen für die Chip-Planarisierung.

290 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe

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