Vacuum vapor deposition apparatus and method for cleaning the same

WO2007069291 Art A1 21. Juni 2007

Anmelder: Shimadzu Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007069291
Aktenzeichen: EP05814453
Anmeldetag: 12. Dezember 2005
Veröffentlichung: 21. Juni 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shimadzu Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shimadzu

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Kyoto. Shimadzu entwickelt Analyse- und Messgeräte, medizinische Bildgebungssysteme sowie Komponenten für Luft- und Raumfahrt, Industrie und Wissenschaft.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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