Laser irradiation apparatus, laser irradiation method, and manufacturing method of semiconductor device
WO2007069516
Art A1
21. Juni 2007
Anmelder: Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2007069516
- Aktenzeichen
- EP06834151
- Anmeldetag
- 30. November 2006
- Veröffentlichung
- 21. Juni 2007
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/268
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Semiconductor Energy Laboratory
Japanisches Forschungsunternehmen mit Sitz in Atsugi. Semiconductor Energy Laboratory (SEL) forscht an Halbleitertechnologien, Flüssigkristall- und OLED-Displays sowie Dünnschichttransistoren.
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