Remote chamber method using sulfur fluoride for removing surface deposits from the interior of a cvd/pecvd-plasma chamber
WO2007070116
Art A2
21. Juni 2007
Anmelder: Massachusetts Institute of Technology Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2007070116
- Aktenzeichen
- EP06847454
- Anmeldetag
- 2. August 2006
- Veröffentlichung
- 21. Juni 2007
- Rechtsraum
- WO
Abstract
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Anmelder
- Firma
- Massachusetts Institute of Technology Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Massachusetts Institute of Technology
US-amerikanische Universität mit Sitz in Cambridge, Massachusetts, eine der weltweit führenden Forschungseinrichtungen. Aktiv in nahezu allen technischen und naturwissenschaftlichen Feldern, darunter Informatik, Ingenieurwesen, Materialwissenschaften und Biotechnologie.
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