Substrate conveying method, substrate conveying apparatus, and exposure apparatus

WO2007072817 Art A1 28. Juni 2007

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2007072817
Aktenzeichen
EP06842873
Anmeldetag
19. Dezember 2006
Veröffentlichung
28. Juni 2007
Rechtsraum
WO
IPC
B65G49/00B65G49/06B65G49/07H01L21/027H01L21/677
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
NIKON CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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