Substrate with contact studs of improved quality
WO2007074351
Art A1
5. Juli 2007
Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2007074351
- Aktenzeichen
- EP05850719
- Anmeldetag
- 29. Dezember 2005
- Veröffentlichung
- 5. Juli 2007
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L23/498H01L21/48H05K3/40
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Infineon Technologies AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Infineon Technologies
Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.
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