Substrate processing device and substrate processing method

WO2007074607 Art A1 5. Juli 2007

Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007074607
Aktenzeichen: EP06833789
Anmeldetag: 30. November 2006
Veröffentlichung: 5. Juli 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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