Conductive particles for anisotropic conductive interconnection

WO2007074962 Art A1 5. Juli 2007

Anmelder: Cheil Industries Inc. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007074962
Aktenzeichen: EP06798634
Anmeldetag: 4. September 2006
Veröffentlichung: 5. Juli 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01B1/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cheil Industries Inc.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Cheil Industries Inc.

Ehemaliges südkoreanisches Chemie- und Materialunternehmen der Samsung-Gruppe, 2015 in Samsung C&T Corporation aufgegangen und heute nicht mehr eigenständig tätig.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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