Inspection apparatus, lithographic system provided with the inspection apparatus and a method for inspecting a sample

WO2007075082 Art A1 5. Juli 2007

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007075082
Aktenzeichen: EP06835647
Anmeldetag: 1. Dezember 2006
Veröffentlichung: 5. Juli 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von