An Oxygen Enhanced Metastable Silicon Germanium Film Layer

WO2007079372 Art A2 12. Juli 2007

Anmelder: ATMEL CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007079372
Aktenzeichen: EP06846808
Anmeldetag: 26. Dezember 2006
Veröffentlichung: 12. Juli 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/331

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ATMEL CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Atmel

Atmel war ein US-amerikanischer Halbleiterhersteller für Mikrocontroller und wurde 2016 von Microchip Technology übernommen. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Software und Datenverarbeitung sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt um Datenspeicherung und Elektronik. Anmeldungen liegen im Zeitraum 2000 bis 2021.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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