Photosensitive resin composition, photosensitive transfer film, and method for pattern formation

WO2007080698 Art A1 19. Juli 2007

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007080698
Aktenzeichen: EP06823209
Anmeldetag: 8. November 2006
Veröffentlichung: 19. Juli 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/027G03F7/028G03F7/033H05K3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

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