Nonmagnetic Material Particle Dispersed Ferromagnetic Material Sputtering Target

WO2007080781 Art A1 19. Juli 2007

Anmelder: Nippon Mining & Metals Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2007080781
Aktenzeichen
EP06843267
Anmeldetag
26. Dezember 2006
Veröffentlichung
19. Juli 2007
Rechtsraum
WO
IPC
C23C14/34
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Nippon Mining & Metals Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Nippon Mining & Metals

Nippon Mining & Metals war ein japanisches Unternehmen für Metallverarbeitung und Halbleitermaterialien, heute Teil von JX Nippon Mining & Metals. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Fertigungs- und Chemietechnik. Die Anmeldungen stammen überwiegend aus den Jahren 2000 bis 2010 und betreffen unter anderem Kupferfolienverbundstoffe.

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