Resin, resist composition, and method of forming resist pattern

WO2007080782 Art A1 19. Juli 2007

Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD., MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007080782
Aktenzeichen: EP06843281
Anmeldetag: 26. Dezember 2006
Veröffentlichung: 19. Juli 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C08F20/28G03F7/004G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

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🇯🇵 Mitsubishi Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, Teil der Mitsubishi-Chemical-Gruppe. Das Unternehmen entwickelt Grund- und Spezialchemikalien, Kunststoffe, Materialien für Elektronik und Energiespeicher sowie Pharma- und Life-Science-Produkte.

3.878 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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