Positive photosensitive resin composition and cured film obtained therefrom

WO2007086249 Art A1 2. August 2007

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007086249
Aktenzeichen: EP07706434
Anmeldetag: 9. Januar 2007
Veröffentlichung: 2. August 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C08G18/64G02B1/04G03F7/004G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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