Plating apparatus and plating method
WO2007086510
Art A1
2. August 2007
Anmelder: Ibiden Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2007086510
- Aktenzeichen
- EP07707507
- Anmeldetag
- 26. Januar 2007
- Veröffentlichung
- 2. August 2007
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C25D7/06C25D17/10H05K3/42
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Ibiden Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Ibiden
Ibiden ist ein japanischer Hersteller elektronischer Materialien mit Sitz in Ogaki, spezialisiert auf IC-Substrate für Halbleiter sowie Keramikprodukte für die Automobil- und Elektronikindustrie.
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Vertreten von
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