"universal" barrier cmp slurry for use with low dielectric constant interlayer dielectrics
WO2007087831
Art A1
9. August 2007
Anmelder: FREESCALE SEMICONDUCTOR, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2007087831
- Aktenzeichen
- EP06723820
- Anmeldetag
- 3. Februar 2006
- Veröffentlichung
- 9. August 2007
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/768H01L21/3105C09G1/00B24B57/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FREESCALE SEMICONDUCTOR, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Freescale Semiconductor
Ehemaliger US-amerikanischer Halbleiterhersteller, hervorgegangen aus einem Spin-off von Motorola, mit Schwerpunkt auf Mikrocontrollern und eingebetteten Prozessoren. Seit 2015 Teil von NXP Semiconductors.
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