Method for heating tft substrate, temperature measuring method for tft substrate, and temperature control method for tft substrate

WO2007091299 Art A1 16. August 2007

Anmelder: Shimadzu Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007091299
Aktenzeichen: EP06713164
Anmeldetag: 7. Februar 2006
Veröffentlichung: 16. August 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/336G01K7/16H01L21/66H01L29/786H05B3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shimadzu Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shimadzu

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Kyoto. Shimadzu entwickelt Analyse- und Messgeräte, medizinische Bildgebungssysteme sowie Komponenten für Luft- und Raumfahrt, Industrie und Wissenschaft.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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