Apparatus for controlling substrate processing apparatus and program for controlling substrate processing apparatus

WO2007091555 Art A1 16. August 2007

Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007091555
Aktenzeichen: EP07713850
Anmeldetag: 6. Februar 2007
Veröffentlichung: 16. August 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02C23C16/52H01L21/205H01L21/285

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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