A method for advanced time-multiplexed etching

WO2007092019 Art A2 16. August 2007

Anmelder: The California Institute of Technology, Hochberg, Michael J., Baehr-Jones, Tom, Scherer, Axel 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007092019
Aktenzeichen: EP06849703
Anmeldetag: 9. Februar 2006
Veröffentlichung: 16. August 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C23F1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: The California Institute of Technology
Hochberg, Michael J.
Baehr-Jones, Tom
Scherer, Axel
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 California Institute of Technology

Private Forschungsuniversität in Pasadena, Kalifornien (USA), mit Schwerpunkt auf Naturwissenschaften und Ingenieurwesen. Sie betreibt unter anderem das Jet Propulsion Laboratory und zählt zu den weltweit führenden Technikhochschulen.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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