Techniques for depositing metallic films using ion implantation surface modification for catalysis of electroless deposition

WO2007092529 Art A2 16. August 2007

Anmelder: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007092529
Aktenzeichen: EP07763129
Anmeldetag: 7. Februar 2007
Veröffentlichung: 16. August 2007
Rechtsraum: WO
IPC: B05D1/32B05D1/36

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.

Varian Semiconductor Equipment Associates war ein US-amerikanischer Hersteller von Halbleiteranlagen, seit 2011 Teil von Applied Materials. Die Patente betreffen Ionenimplantation und Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Verfahrens- & Trenntechnik

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