Removal Of Metal Residue in Integrated Circuit Manufacture

WO2007092919 Art A2 16. August 2007

Anmelder: Texas Instruments Incorporated 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007092919
Aktenzeichen: EP07763195
Anmeldetag: 8. Februar 2007
Veröffentlichung: 16. August 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/42

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Texas Instruments Incorporated
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Texas Instruments

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Dallas (Texas). Entwickelt und fertigt analoge und eingebettete Halbleiterprodukte, Prozessoren sowie Schaltkreise für Industrie, Automobil- und Konsumelektronik.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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