Integrierte Schaltkreis-Anordnung und Verfahren zum Ermitteln des Parasitären Ohmschen Widerstands Zumindest der Zuleitung Zumindest einer Speicherzelle einer Integrierten Schaltkreis-Anordnung
WO2007093172
Art A2
23. August 2007
Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2007093172
- Aktenzeichen
- EP07711198
- Anmeldetag
- 16. Februar 2007
- Veröffentlichung
- 23. August 2007
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01R27/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Infineon Technologies AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Infineon Technologies
Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.
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