Protection device, mask, and exposure device

WO2007094197 Art A1 23. August 2007

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007094197
Aktenzeichen: EP07708091
Anmeldetag: 6. Februar 2007
Veröffentlichung: 23. August 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F1/14G03F1/16

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

3.320 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von