Nano-sized ultrathin film dielectric, process for producing the same and nano-sized ultrathin film dielectric device

WO2007094244 Art A1 23. August 2007

Anmelder: National Institute for Materials Science 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007094244
Aktenzeichen: EP07708271
Anmeldetag: 8. Februar 2007
Veröffentlichung: 23. August 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/78C01G23/04C09D1/00H01B3/00H01B17/60H01B19/00H01L21/316H01L21/8242H01L27/108

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: National Institute for Materials Science
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute for Materials Science

Japanisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Tsukuba, das auf Materialwissenschaft und Werkstoffforschung spezialisiert ist.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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