High-Strength Sputtering Target For Forming Fluorescent-Material Film in Electroluminescent Element

WO2007094449 Art A1 23. August 2007

Anmelder: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007094449
Aktenzeichen: EP07714365
Anmeldetag: 16. Februar 2007
Veröffentlichung: 23. August 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C09K11/64H05B33/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Materials

Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von