Beleuchtungseinrichtung einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
WO2007096250
Art A1
30. August 2007
Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2007096250
- Aktenzeichen
- EP07704433
- Anmeldetag
- 7. Februar 2007
- Veröffentlichung
- 30. August 2007
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Frank, Hartmut
Mülheim a. d. Ruhr, Deutschland
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