Stencil mask for accurate pattern replication
WO2007099518
Art A1
7. September 2007
Anmelder: ECOLE POLYTECHNIQUE FEDERALE DE LAUSANNE (EPFL) 🇨🇭
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2007099518
- Aktenzeichen
- EP07713200
- Anmeldetag
- 5. März 2007
- Veröffentlichung
- 7. September 2007
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ECOLE POLYTECHNIQUE FEDERALE DE LAUSANNE (EPFL)
- Land
- 🇨🇭 Schweiz
🇨🇭
École Polytechnique Fédérale de Lausanne
Schweizer technische Hochschule und Forschungseinrichtung mit Schwerpunkt auf Ingenieur- und Naturwissenschaften.
1.098 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.