Photomask blank and photomask, and their manufacturing method

WO2007099910 Art A1 7. September 2007

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007099910
Aktenzeichen: EP07737380
Anmeldetag: 26. Februar 2007
Veröffentlichung: 7. September 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/08C23C14/06H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

701 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von