Metal oxide particle, polishing material containing same, substrate polishing method using such polishing material, and method for manufacturing semiconductor device

WO2007100093 Art A1 7. September 2007

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007100093
Aktenzeichen: EP07737686
Anmeldetag: 2. März 2007
Veröffentlichung: 7. September 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C01B13/18B24B37/00C01F17/00C09K3/14H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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