Infrarotsrahlung Reflektierendes Schichtsystem sowie Verfahren zu Seiner Herstellung
WO2007101530
Art A1
13. September 2007
Anmelder: Applied Materials GmbH & Co. KG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2007101530
- Aktenzeichen
- EP07711553
- Anmeldetag
- 15. Februar 2007
- Veröffentlichung
- 13. September 2007
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C03C17/36
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials GmbH & Co. KG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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