Photosensitive composition, photosensitive film, method for permanent pattern formation using said photosensitive composition, and printed board

WO2007102289 Art A1 13. September 2007

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007102289
Aktenzeichen: EP07708100
Anmeldetag: 6. Februar 2007
Veröffentlichung: 13. September 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038G03F7/004H01L21/027H05K3/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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