Substrate processing apparatus and substrate processing method
WO2007102426
Art A1
13. September 2007
Anmelder: Hitachi Kokusai Electric Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2007102426
- Aktenzeichen
- EP07737692
- Anmeldetag
- 2. März 2007
- Veröffentlichung
- 13. September 2007
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/205H01L21/31
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi Kokusai Electric Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi
Japanischer Konzern, der Technik für Energie, Bahn, Industrieanlagen, Informationstechnik und Haushaltsgeräte entwickelt und herstellt.
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