Methods and arrangement for implementing highly efficient plasma traps

WO2007102923 Art A2 13. September 2007

Anmelder: Lam Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007102923
Aktenzeichen: EP06850340
Anmeldetag: 20. Dezember 2006
Veröffentlichung: 13. September 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C23F1/00C23C16/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Lam Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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